研究内容
知的ナノプロセス研究分野
本研究分野では次世代半導体デバイスにおける高精度ナノプロセスを目指し、プラズマプロセス、ビームプロセスや原子操作プロセスにおける活性種（電子、正負イオン、原子・分子、ラジカル、フォトン）と物質との相互作用（エッチング、薄膜堆積、表面改質）に関する研究や、これら原子・分子プロセスに基づいて生体超分子を取り扱う先端バイオナノプロセスに関する研究を推進します。
さらに、実験と計算を融合し、実時間にて原子層レベルの表面化学反応制御を実現できる知的ナノプロセスの構築を目指しています。
１. プラズマ・ビーム・原子操作プロセスによる原子層デジタルプロセス技術の確立
２. 原子層レベル表面反応の解析とモデル化
３. プロセスモニタリング用マイクロセンサー システム技術の確立
４. プロセスモニタリングと表面反応シミュレーションの融合によるリアルタイム・ナノプロセス制御システム技術の確立
５. 次世代ナノデバイスを目指したバイオ・ナノプロセス技術の確立
