応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第152回フロンティアプロセス研究会を開催
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9月4日、産業技術総合研究所 つくば第２事業所本部・情報棟１F ネットワーク会議室で
「応用物理学会シリコンテクノロジー分科会第152回フロンティアプロセス研究会」が開催されました。
今回は「最先端シリコンナノエレクトロニクスの動向と今後の展開」をテーマに、
世界をリードする半導体デバイス・プロセス技術者・研究者先生方に講演をして頂きました。
50名超の参加者が日本全国より駆けつけ、企業や大学の枠を超えて、これからの半導体業界を見据えた活発な議論が交わされました。
講演プログラム 『NANDフラッシュメモリーの現状と将来動向』 (基調講演) 作井康司（マイクロン） 『Si Photonics toward on-chip WDM』 和田一実（東大） 『シリコンナノデバイスの物性』 内田建（慶応大） 『量子ドットデバイス』 寒川誠二（東北大） 『３次元トランジスタ』 遠藤和彦（産総研） 『スピンデバイス』 安藤功兒（産総研） 『高移動度チャネルCMOSデバイス』 高木信一（東大） |
東京大学 和田一実先生
慶応大学 内田建先生
東北大学 寒川誠二先生
産業技術総合研究所 遠藤和彦先生
産業技術総合研究所 安藤功兒先生
東京大学 高木信一先生
