第4回インテリジェント・ナノプロセス研究会

【第一部: プレナリー講演】

沖電気工業（株）シリコンマニュファクチャリングカンパニーWPビジネス本部 北明夫 副本部長 「半導体ビジネスの今後の展望」

産業技術総合研究所 エレクトロニクス研究部門 鈴木英一 副部門長 「次世代シリコン半導体デバイス技術の将来展望」

【第二部: 超先端デバイス技術】

北海道大学 大学院情報科学研究科 高橋庸夫 教授 「単電子デバイスの現状と今後の展望」

奈良先端科学技術大学院大学 物質創成科学研究科 浦岡行治 助教授 「未来のディスプレイ −システムオンパネルの実現を目指して−」

【第三部: インテリジェント・ナノプロセス技術】

大阪大学 大学院工学研究科 渡部 平司 助教授 「高誘電率 (high-k) 膜形成技術の現状と今後の展望」

ソニー（株）セミコンダクターソリューションズネットワークカンパニー 辰巳哲也 主幹研究員 「高信頼配線実現のための Low-k 加工技術」

Department of Electronic Engineering, Myongji University, Korea Assistant Professor Dr. Sam Jeen Hong 「Advanced Process Control for Plasma Etching Processes」

東北大学 エネルギー安全科学国際研究センター 三浦英生 教授 「格子歪と結晶欠陥の相互作用とデバイス信頼性への影響」

東北大学 流体科学研究所 寒川誠二 教授 「中性粒子ビームによる究極のトップダウン加工」

【懇親会】