IITC2010で発表・寒川先生IBMで招待講演！
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IITC 2010（International Interconnect Technology conference）が6月7
日〜9日サンフランシスコで開催されました。寒川研究室から安原さんがSTARC
テーマで3年間研究してきた集大成として「Ultimate-Low-k SiOCH Film with
Sufficient Modulus and Ultra-High Thermal Stability Formed by
Low-Temperature Pulse-Time-Modulated Neutral-Beam-Enhanced CVD」と題して
発表を行いました。大変盛況でIntelやIBMの研究者からも、「大変すばらしい研
究だ」「是非膜を評価させて欲しい」という類の意見をいただきました。群を抜
いての集客があり、安原さんのみならず、寒川先生、松永さん、3名総出でfullに説
明対応を行いました。（「そのため写真を撮るのを忘れてしまいました・・」とは
松永さん談）
その後、6月10日にニューヨークのアルバニーナノテクセンターを訪問しまし た。ここは社会人Dr卒業生の曽田さん（ルネサス）が活躍されています。 寒川先生は、今回、IBMとそのアライアンスメンバーに向けて開催される Technical vitality seminar での講師として招待講演を行いました。 寒川先生は、中性粒子ビームを中心とした研究室のアクティビティを紹介し、 エッチング、成膜、酸化膜形成、バイオなど広く講演を行いました。100人弱が 入る部屋はほぼ満席でしたが、お昼休みに入っても席を立つものは殆どなく大変 活発な議論が行われました。 |
アルバニーナノテクセンター（ANT)前にて記念撮影
寒川先生のVitality Seminar 講演を告知する大きなポスターがありました。
中性粒子ビーム技術について熱く講演する寒川先生と、真剣に聴講するIBMアライアンスメンバー
講演後の夜は、ANTに赴任している旧NECのメンバーと語らいました。
ANTに赴任している旧NECのメンバーと寒川先生、安原さん、松永さん、橋本さん
IITC発表およびANT講演の大成功の祝杯を挙げました。曽田さんのアレンジありがとうございました（写真を撮ってくれているのが曽田さんです）
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