学会名：応用物理学会シリコンナノテクノロジー分科会 第229回研究集会

参加者：上根直也、徳増崇

日　時：2021.07.16

D2の上根直也君が、「CVD/ALD薄膜成長における材料/プロセスと構造/組成の最適化に向けた反応性力場分子動力学法および密度汎関数法による数値シミュレーション研究」という題目で招待講演を行いました。