Equipment
流体研2号館101号室 (第3実験室)
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Neutral beam CVD/oxidation system
中性粒子ビーム対応CVD装置
(101-NBO) -
UHV XPS/AFM/STM
超高分解能XPS/AFM装置
(101-XPS)
流体研2号館103号室 (第3実験室)
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Neutral beam etching system for Si-based materials
Si対応NBエッチング装置
(103-Siエッチング) -
Neutral beam etching system for III-V compounds
化合物半導体対応NBエッチング装置
(103-化合物エッチング) -
UHV sputter/EB deposition system
超高真空スパッタ装置
(103-スパッタ)
流体研2号館104号室 (第2実験室)
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Plasma analysis system
プラズマ分析装置
(104-プラズマ分析) -
Scanning electron microscope
走査型電子顕微鏡
(104-SEM) -
Neutral beam sytem for organic materials
マルチビーム生成装置
(104-マルチビーム) -
UV-ozone cleaner
UVオゾン処理装置
(104-UVオゾン)
流体研2号館106号室 (第1実験室)
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Neutral beam CVD system (8inch)
大口径NBE-CVD装置
(106-NB-CVD) -
Neutral beam etching system for metals
NBメタルエッチング装置
(106-メタルエッチ)
流体研2号館201号室 (第1共同実験室)
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Scanning probe microscope
島津製SPM装置
(201-SPM) -
Angle-resolved UV-Vis-NIR spectroscopy
角度変更型UV-VIS装置
(201-UVVIS) -
Fume hood
ドラフト
(201-ドラフト) -
Glovebox
グローブボックス
(201-GB)
流体研2号館203号室 (第4共同実験室)
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FT-IR
FT-IR（フーリエ変換赤外分光光度計）
(203-FTIR) -
Tube furnace
小型アニール炉
(203-アニール) -
Resistance heating deposition apparatus
真空蒸着装置
(203-蒸着装置)
流体研2号館206号室(共同計測室)
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Spectroscopic ellipsometer
エリプソメトリー装置
(206-エリプソ) -
Thermal desorption spectrometer
TDS(昇温脱離ガス分析)装置
(206-TDS) -
Solar simulator
ソーラーシミュレータ―
(206-ペクセル) -
Interference thickness meter
光干渉式膜厚測定装置 ラムダエース
(206-ラムダエース) -
Hall effect measurement system
ホール効果測定装置
(206-ホール効果) -
Solar simulator (IQE/EQE)
分光感度測定装置
(206-分光感度測定装置)
WPI-ANNEX棟 423号室
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Plasma etching apparatus
TCPエッチング装置
(WPI423-TCPエッチング) -
Neutral beam etching system (8inch)
大口径NBエッチング装置
(WPI423-大口径)
WPI-ANNEX棟 424号室
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Micro PL/Raman spectroscopy
顕微ラマン分光測定装置
(WPI424-ラマン)
Contents
