10月7日から10月9日にかけて、東京大学浅野キャンパスにある武田先端知ピルにてADMETA2026が開催されました。
研究室からは修士課程1年の長田さんが発表しました。
「Silicon Etching by Hydrogen Iodide Plasma as New Gas Chemistry」と題し、
SiエッチングへのHIガスの応用について議論しました。
以下、ADMETA2026で発表を行った長田さんの感想です。
自分自身初の学会で英語での発表ということもあり、とても緊張しました。
学会中はとても有意義な議論ができ貴重な経験となりました。