研究業績
受賞
寒川先生が応用物理学会論文賞（JJAP論文賞）を受賞
本年の応用物理学会論文賞（JJAP論文賞）に寒川先生の論文が選出されました。本論文はプラズマエッチングプロセスにおいて、放射紫外線の介在の影響と重要性について指摘した世界で初めての論文であり、この点が評価されての受賞となりました。この受賞は寒川先生、博士課程１年の陣内佛霖君、ウシオ電機株式会社・森本幸裕氏、小田史彦氏との共同受賞です。名古屋・中部大学で行われる秋季応用物理学会講演会にて、9/2に授賞式、9/4に記念講演が開催されます。
皆さんで寒川先生の受賞を慶びたいと思います。
論文名： Surface Reaction Enhancement by UV irradiation during Si Etching Process with Chlorine Atom Beam
掲載誌： Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 46, No. 3, 2007, pp. L64-L66
著 者： Seiji Samukawa, Butsurinn Jinnai, Fumihiko Oda, and Yukihiro Morimoto
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