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寒川先生、台南・成功大学で開催されたIIT 2016 (21st International Conference on Ion Implantation Technology)でKeynote Talkを行う！(2016/9/30)
寒川生成は９月２５日～３０日まで台湾・台南市の国立成功大学で開催された21st International Conference on Ion Implantation Technology(IIT2016)において９月３０日朝一番にKeynote Talkを行いました。
IITはイオン注入関連の学会として有名で、イオンビーム全般にわたる成果を議論する歴史ある国際的にも認知された国際会議です。会議初日の９月２６日には米国National Medal of Technology and Innovation Laureate 2016をオバマ大統領から受賞したUC BerkeleyのProf. Chenming HuのKeynote Talk”Will semiconductor scalling end? What then?”がありました。その会議において寒川先生は中性粒子ビームに関する必要性と応用に関する基調講演を行いました。大変多くの質問を受け、ナノデバイスに関する議論を行うことができました。イオンビームの世界でも中性粒子ビームが認知されてきたことを示しています。
台南にはTSMCの最新工場もあり、装置メーカーやデバイスメーカーからの接触も多数あったようです。台湾における半導体産業の活発な活動を感じたようです。
