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寒川先生、４月２０日にNarl主催のSymposium on Nano-Devices Technologyにて基調講演
寒川先生は４月２０日に台湾National Applied Research Laboratories (Narl)主催の25th Symposium on Nano-devices Technologyで原子層レベルの無欠陥トップダウンプロセスと題して基調講演を行いました。
最初の基調講演者はTSMCの副社長・CTOのDr.Jack Sunで”Semiconductor TechnologyTrend and Opportunities”に講演され、AIあるいはIoTの基盤となる半導体デバイスに関して解説された中に、そのキーの技術として原子層プロセスの重要性が紹介されました。その講演を受けて、寒川先生は中性粒子ビームを用いた原子層プロセスに関して５０分に渡り講演を行いました。
聴講者からも感銘を受けたという質問も多々あり、大変好評でした。
寒川研究室で行って来た中性粒子ビームプロセスは正に今後必要不可欠となる原子層プロセスとして注目を集めている技術であり、台湾を中心とする国際的な枠組みの中で世界に発信していくタイミングとなってきたことを痛感させるシンポジウムでありました。
添付写真は、シンポジウム最初に招待講演者全員が壇上に上がって記念撮影（中央がNarl理事長・Prof. Wang）を行った後、TSMCの副社長・CTOのDr. Jack Sunの基調講演があり、その次に寒川先生の基調講演が行われました。
