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行事

寒川先生、大堀学術研究員、陳技術補佐員、第19回ALD国際会議に参加


 7月22日~24日の期間開催された第19回ALD国際会議に寒川先生、大堀さん、 陳さんが参加され、中性粒子ビームを使ったゲルマニウムALEおよびSiO2ADLの発表を 行いました。また、寒川先生にとっては久しぶりのAVS学会であったので、懐かしい 面々にも会い、旧交を温めるとともに、窮地にある日本の科学技術の在り方に関して 意見交換を行った。
 原子層プロセスでは熱プロセスが主流でプラズマを用いたプロセスは数少ないのが現 状である。その中で大堀さん、陳さんの発表した中性粒子ビームによる原子層プロセ スは極めて注目を浴び、特に中性粒子ビームに関する多くの質問が寄せられ、室温で 切る新しいプロセスとして認識された。講演後、ASM Senior Director Dr.Piumi、東 芝メモリ・林所長代理、Lam野尻取締役など多数の方々と今後の原子層レベルの加 工・堆積技術に関して意見交換することができた。

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